Sep 22, 2025 Fág nóta

Teicneolaíocht déanta sliseanna ‘Beyond EUV’ ag brú X Bog -Ray Lithography Níos gaire do Hipirtheannas Dúshlánach-NA EUV

Nocht taighdeoirí in Ollscoil Johns Hopkins cur chuige nua maidir le déanamh sliseanna a úsáideann léasair le tonnfhad 6.5nm ~ 6.7nm - ar a dtugtar Soft X -ghathanna - a d'fhéadfadh réiteach uirlisí liteagrafaíochta a mhéadú go 5nm agus thíos, tuairiscíonn Cosmos, ag lua páipéar a foilsíodh i Nature.

Glaonn na heolaithe ar a modh ‘thar-EUV’ - a thugann le tuiscint go bhféadfadh a dteicneolaíocht teacht in ionad an tionscail-litagrafaíocht chaighdeánach EUV - ach admhaíonn na taighdeoirí go bhfuil blianta fada acu ó thógáil fiú uirlis thurgnamhach B-EUV.

Micron

X{0}}Is féidir le gathanna boga dúshlán a thabhairt do Hyper-NA. Ar pháipéar

Déantar na sliseanna is airde sa lá atá inniu ann trí úsáid a bhaint as liteagrafaíocht EUV, a fheidhmíonn ag tonnfhad 13.5 nm agus ar féidir leo gnéithe chomh beag le 13nm a tháirgeadh (Íseal-NA EUV de 0.33 Cró uimhriúil), 8nm (Ard-NA EUV de 0.55 NA ~ ~), nó fiú 5nm {4nm} NA EUV (0.55 NA ~), nó fiú 5nm {4nm} NA EUV (13nm) 0.7 - 0.75 NA) ar chostas fíor-chastacht na gcóras liteagrafaíocht a bhfuil optaic an-dul chun cinn acu a chosnaíonn na céadta milliún dollar.

 

Trí úsáid a bhaint as tonnfhad níos giorra, is féidir le taighdeoirí ó Ollscoil Johns Hopkins treisiú réitigh intreach a fháil fiú le lionsaí le NA measartha. Mar sin féin, tá go leor dúshlán rompu le B-EUV.

Ar an gcéad dul síos, níl foinsí solais B-EUV réidh fós. Bhain taighdeoirí éagsúla triail as modhanna éagsúla chun radaíocht tonnfhad 6.7 nm a ghiniúint (m.sh. léasair gadolinium{-plasma a tháirgtear), ach níl aon chur chuige caighdeánach ag an tionscal. Ar an dara dul síos, ní dhéanann na tonnfhaid níos giorra seo - mar gheall ar a bhfuinneamh fótóin ard - idirghníomhú go dona le hábhair fhótaileictreach traidisiúnta a úsáidtear i ndéanamh sliseanna. Ar an tríú dul síos, toisc go n-ionsúnaítear solas tonnfhad 6.5nm ~ 6.7nm seachas é a bheith léirithe ag beagnach gach rud, níor táirgeadh scátháin ilchisealacha brataithe don chineál seo radaíochta roimhe seo.

Cineál Litagrafaíocht

Tonnfhad

Rún Insroichte

Fuinneamh Photon

Cró Uimhriúil (NA)

Nótaí

g-líne (Réamh-DUV)

436 nm

500 nm

2.84 eV

0.3

Úsáideann lampaí gal mearcair; nóid oidhreachta; taifeach íseal.

i-líne (Réamh-DUV)

365 nm

350 nm

3.40 eV

0.3

Úsáidte le haghaidh CMOS luath.

KrF DUV

248 nm

90 nm

5.00 eV

0.7 - 1.0

Úsáidte ó ~ 130 nm go 90 nm; foinse léasair excimer; fós in úsáid i sraitheanna backend.

ArF DUV

193 nm

65 nm (tirim) - 45 nm (tumoideachas + ilpatterning)

6.42 eV

Suas le 1.35 (tumoideachas)

DUV is airde; fós riachtanach i nóid ilphatrúin 7 nm–5 nm; a úsáidtear le haghaidh go leor sraitheanna i nóid 2nm.

EUV

13.5 nm

13 nm (dúchais), 8 nm (il-patrún)

92 eV

0.33

I dtáirgeadh toirte do nóid 5 nm - 2nm. Bainfear úsáid as ar feadh na mblianta atá le teacht.

Ard-NA EUV

13.5 nm

8 nm (dúchais), 5 nm (sínte)

92 eV

0.55

Na chéad uirlisí: ASML EXE: 5200B; spriocanna thar nóid ranga 2 nm; méid páirce laghdaithe, costas níos airde.

Hyper{0}}NA EUV (todhchaí)

13.5 nm

4 nm nó níos fearr (teoiriciúil)

92 eV

0.75 nó níos mó

Teicneolaíocht na todhchaí; tá gá le scátháin choimhthíocha agus innealtóireacht ultra-bheachtais.

X-gha / B-EUV bog

6.5 nm - 6.7 nm

níos lú ná 5 nm (teoiriciúil)

185-190 eV

0.3 - 0.5 (ag súil leis)

Turgnamhach; -fótóin ardfhuinnimh; miotal nua-cheimiceáin orgánacha atá faoi thástáil.

Ar deireadh, ní mór na huirlisí liteagrafaíochta seo a dhearadh ón tús, agus faoi láthair, níl aon éiceachóras ann chun tacú leis na dearaí le comhpháirteanna agus earraí inchaite. Mar achoimre, teastaíonn dul chun cinn i bhfoinsí solais, i scátháin teilgin, i bhfriotáin, agus fiú in ábhair inchaite amhail millíní nó maisc fhóta chun meaisín B-EUV (nó meaisín Soft X{{}}ghathaithe?) a thógáil.

 

Dúshláin a réiteach ceann i ndiaidh a chéile

Rinne taighdeoirí in Ollscoil Johns Hopkins, faoi cheannas an Ollaimh Michael Tsapatsis, iniúchadh ar conas is féidir le miotail áirithe feabhas a chur ar an idirghníomhú idir solas B-EUV (timpeall 6 nm) agus ábhair a úsáidtear i ndéanamh sliseanna (.i. níor oibrigh siad ar dhúshláin eile a bhaineann le ghathanna Soft X).

 

Fuair ​​an fhoireann amach go bhfuil miotail cosúil le since in ann solas B-EUV a ionsú agus leictreoin a astú, rud a spreagann imoibrithe ceimiceacha i gcomhdhúile orgánacha ar a dtugtar imidazoles. Fágann na frithghníomhartha seo gur féidir patrúin an-mhínte a eitseáil ar sliseog leathsheoltóra.

Is díol spéise é, cé go bhfeidhmíonn sinc go dona le solas traidisiúnta 13.5nm EUV, bíonn sé an-éifeachtach ag tonnfhaid níos giorra, rud a chuireann béim ar a thábhachtaí atá sé an t-ábhar a mheaitseáil leis an tonnfhad ceart.

Chun na comhdhúile miotail-orgánacha seo a chur i bhfeidhm ar sliseoga sileacain, d'fhorbair na taighdeoirí teicníc ar a dtugtar sil-leagan ceimiceach (CLD). Cruthaíonn an modh seo sraitheanna tanaí scáthánacha d'ábhar ar a dtugtar aZIF (creatacha imidazoláit zeolitic éagruthacha), ag fás ag ráta 1nm in aghaidh an tsoicind. Ligeann CLD freisin tástáil thapa a dhéanamh ar chomhcheangail dhifriúla miotail-imidasóil, rud a fhágann go bhfuil sé níos éasca na péirí is fearr a aimsiú le haghaidh tonnfhaid liteagrafaíochta éagsúla. Cé go n-oireann since go maith do B-EUV, thug an fhoireann faoi deara go bhféadfadh go n-éireodh le miotail eile níos fearr ag tonnfhaid éagsúla, rud a thairgeann solúbthacht do theicneolaíochtaí déanta sliseanna sa todhchaí.

Tugann an cur chuige seo bosca uirlisí de 10 n-eilimintí miotail ar a laghad agus na céadta ligand orgánacha do mhonaróirí chun friotáin saincheaptha a chruthú atá in oiriúint do ardáin liteagrafaíochta ar leith, a nocht na taighdeoirí.

Achoimre

Cé nár réitigh na taighdeoirí an chairn iomlán de dhúshláin B-EUV (m.sh., foinsechumhacht, maisc), chuir siad ceann de na baic is tábhachtaí chun cinn: ábhair fhriotóra a aimsiú a d’fhéadfadh oibriú le solas tonnfhad 6nm. Chruthaigh siad an próiseas CLD chun scannáin tanaí aonfhoirmeacha de chreataí imidazolate zeolitic éagruthacha (aZIFs) a chur i bhfeidhm ar sliseoga sileacain. Thaispeáin siad go turgnamhach gur féidir le miotail áirithe (cosúil le since) solas gathach X Bog a ionsú agus leictreoin a astú a spreagann imoibrithe ceimiceacha i bhfriotáin imidazóil-bunaithe.

Tá neart dúshlán le réiteach le B-EUV, agus níl cosán soiléir ag an teicneolaíocht chuig an ollmhargadh. Is féidir an próiseas CLD a úsáid go forleathan, áfach, i bhfeidhmchláir leathsheoltóra agus neamh-leathsheoltóra.

LeanCrua-earraí Tom ar Google News, nócuir linn mar fhoinse roghnaithe, chun ár nuacht, anailís agus léirmheasanna a thabhairt suas chun dáta i d'fhothaí. Bí cinnte cliceáil ar an gcnaipe Lean!

 

 

Glaoigh Linn

whatsapp

Fón

R-phost

Fiosrúchán