Láser máquina Ts'ut'ubi ja ar proceso ar Ts'ut'ubi, vigas enfocados ja 'nar lente yá ñä ar Ts'ut'ubi ja 'nar na pequeño foco, foco, densidad mextha energía, incluyendo yá ñä Ts'ut'ubi da fija jar eje z. Jar nuna ar t'olo ora, ar viga entrada mäs xingu ar nä'ä ya materiales da reflejan, ya xeni conducción ne difusión pa, rápidamente calefacción jar ar mpat'i fusión ne vaporización materiales ar xkagentho pa, 'nar corriente ndähi mextha velocidad ndezu̲ ngehnu̲ ar coaxial wa hi'nä concéntrica ar derretirá ne vaporizar ar hñei, orificio Ts'ut'ubi xí. Ar enfoque ne yá 'ñäni hmä ar hñei, ancho oki formando 'nar continuo Ts'ut'ubi estrecho, ar Ts'ut'ubi hñei.
Da la actualidad, ar gi japu̲'be̲fi máquina Ts'ut'ubi láser jar ar xeni exterior óptica ko ar óptico ar di nsa̲ni. Emitida nge ar reflector haz láser 1, 2, 3 ja yá ñä ar Ts'ut'ubi ja ar enfoque objetivo, centrando ar ja ar material ar superficie ar ha̲i. Ya hñeda̲ reflectantes 1 fijado Tobe ar fuselaje; viga reflectores x 2 junto con ar rayo yá 'ñäni; reflectores jar eje z 3 ne ne z eje yá 'ñäni. Ar hei ar ga ar diagrama, ja ya proceso Ts'ut'ubi, komongu ar rayo x yá 'ñäni, parte ar ar ne yá 'ñäni ya eje z, xi cambiando ar longitud ar trayectoria ar tsibi.
